薄膜制备原料

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物理薄膜应用 原料类型 原料来源及特点
光学薄膜 氧化硅、氧化铝、氮化硅等氧化物 来源广泛,成本低廉,化学稳定性好,适用于各种光学器件
导电薄膜 金、银、铜等金属,导电聚合物等 金属原料来源丰富,导电聚合物具有较好的柔韧性和可加工性
隔离薄膜 聚酰亚胺、聚酯等高分子材料 具有优异的耐热性、耐化学腐蚀性和机械强度,适用于多种电子器件
反射薄膜 镀铝膜、银膜等金属膜 反射率高,光效好,广泛应用于太阳能电池、照明等领域
耐热薄膜 氧化锆、氮化硅等陶瓷材料 具有优异的耐高温性能,适用于高温环境下工作的器件
防水薄膜 聚四氟乙烯、聚偏氟乙烯等高分子材料 具有良好的防水性能,适用于户外、水下等环境
磁性薄膜 镍铁、钴铁等金属合金 具有优异的磁性能,适用于磁性存储器件、传感器等领域
光催化薄膜 二氧化钛、氧化锌等半导体材料 具有良好的光催化性能,可用于光催化反应、空气净化等领域
抗菌薄膜 银离子、锌离子等金属离子掺杂的聚合物 具有优异的抗菌性能,适用于疗器械、抗菌涂层等领域
超疏水薄膜 聚四氟乙烯、聚偏氟乙烯等高分子材料 具有优异的超疏水性能,可用于自清洁材料、防雾涂层等领域
薄膜制备原料
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